磁控溅射镀膜设备报价 至成真空镀膜设备

真空镀膜系统的制作方法

在现有的真空镀膜机中，安装在镀膜腔体中的加热装置多种多样，现有的用于真空镀膜的加热装置大多有加热效率不高，无法减轻操作负担、以及提高作业效率，受热不均等问题。

提供一种真空镀膜系统，本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。

真空镀膜系统优点：蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。

真空镀膜机和蒸发真空镀膜机的差异

真空镀膜机是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，而在其中配装蒸发装置和磁控装置，可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。真空镀膜机一般都是由真空系统、蒸发系统、薄膜卷绕系统、冷却系统、控制系统等主要部分组成。

当薄膜运行速度达到一定数值后，打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。

通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在250～500。而蒸发真空镀膜机是***在塑料表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的专用设备，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。分为立式和卧式。

蒸发真空镀膜设备成膜速率快，膜层牢固，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，可避免对环境的污染，是大规模生产的理想设备。离子真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的***专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便。

真空镀膜设备故障排除及检漏方法

真空镀膜设备故障排除及检漏方法在真空镀膜设备正常工作时,主开关电路中的开关管处于饱和导通状态,管压降保持在100V左右,栅极得到正偏压50V,高压指示6kV(或10kV)。从检测电路R21上得到的电压控制信号不足以使D13稳压管击穿导通,BG14、BG15、BG16处于截止状态,而BG11、BG12、BG13处于导通状态,由BG11输出一个2.5V左右的高电位。栅压切换电路上的BG10得到2.5V的电压控制信号而处于导通状态,使得BG9的基极电位变为0电位而截止,主开关管通过D6、D7得到正向50V偏置的电压。同时BG7、BG8也处于导通状态,D8稳压管击穿导通,提供主开关管栅极恒定的电流。由于BG10处于导通状态,使得帘栅控制电路的BG4的基极处在0电位而截止,帘栅压的大小受高压分压器信号UR2的控制。当UR2<UD2时,输出的帘栅压的大小是随UR2的变化而变化。

在真空镀膜设备不正常情况下,增加束流时,由于束斑的位置不在中心,电子束可能会打到坩埚的边缘,或者束斑的位置在中心,但蒸镀的材料被打穿等原因,都会出现高压无指示。这是由于高压输出被近似短路,造成电子束流大于预定值,主开关管处于截止状态,承受全部高压,使得高压无输出。由于打火而造成过大的束流,在电流检测电路R21取得的过流信号,使得D13稳压管被击穿导通,BG14、BG15、BG16处于导通状态,C13通过BG14、R51放电,使得BG11、BG12、BG13很快截止,BG11输出为0V。栅压切换电路上的BG10得到0V的输入信号而截止,BG9立刻导通,550V正端通过BG9接到主开关管的阴极,负端通过D5管接到主开关管的栅极,主开关管得到-550V偏压而进入深度截止,此时高压就没有指示了。