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真空镀膜设备的相关特性是什么呢?

真空镀膜设备的相关特性是什么呢？ 1.真空镀膜设备沉积材料：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系. 2.真空镀膜设备节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的. 3.真空镀膜设备无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。

离子镀膜设备的工作原理及操作方法

离子镀膜设备的工作原理及操作方法 目前商业上已有很精制的设备安装在显微镜下的载物台的位置上。溅射镀膜时，将抛光的试样安放在式样头具上，倾转到面对电子枪（阴极）的位置，调节溅射室中的气压，辉光放电，阴极溅射，反应溅射沉积。一定时间后，中断溅射，把溅射沉积的试样表面，转回到面对物镜的位置，观察试样表面的颜色，来评定沉积膜的厚度，当要求的颜色得到时，镀膜操作停止。

真空镀膜机中钨丝的用途

真空镀膜机中钨丝的用途： 钨丝是真空镀膜机中不可或缺的材料，下面为大家讲一下这种材料的使用用途。 钨丝除少量用作高温炉的发热材料、电子管的热子和复合材料的加强筋等外，绝大部分都用于制作各种白钨丝炽灯和卤钨灯的灯丝以及气体放电灯的电极。对用作气体放电灯阴极的钨丝或钨杆，为降低其电子逸出功，须加入0.5～3％的钍，称为钨钍丝。由于钍是一种性元素，污染环境，故有用来代替钍作成钨丝或钨杆的。但的蒸发率高，所以钨丝或钨杆只能用于小功率的气体放电灯。