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影响蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜性能的因素

响蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜性能的因素有：被蒸镀的基膜、蒸镀方法、蒸镀工艺条件对蒸镀氧化硅薄膜性能的影响等。

①塑料薄膜的类型：蒸镀的氧化硅膜与塑料薄膜之间的黏合牢度，与塑料基膜种类之间有较大的关系，PET、PVC等极性较大的薄膜与氧化硅之间的黏合性较佳，而非极性的薄膜与氧化硅之间的黏合力则比较差。

②塑料薄膜表面状态：蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜的阻隔性，除了受蒸镀层的厚度影响之外，更大程度上取决于氧化硅镀层的均匀性。裂缝、等缺欠，会导致蒸镀氧化硅类蒸镀薄膜的阻隔性明显下降，缺陷的形成除了蒸镀层本身的化学成分与结构之外，所用基膜的表面平滑性也是一个重要因素，粗糙度越大，越容易造成蒸镀缺陷，但适量的粗糙度，会使蒸镀层和基膜的表面之间形成物理锚接，改善层间黏合力。

③塑料薄膜的表面预处理状况：为了得到的蒸镀薄膜，对基膜进行适度的表面电晕处理是十分必要的。塑料薄膜经过表面电晕处理，可在其表面形成氧化层，增大基膜与蒸镀涂层之间的结合力。在预处理设备一定的情况下，如果预处理时间不足，表面改性不充分，基膜与涂层之间的结合牢度不理想；预处理时间过长，则可能引起基膜较深层次的界面弱化，产生基膜自身的弱界面层，引起整个材料的结合力下降。

真空镀膜设备实验分析与讨论蒸发磁控溅射镀膜机

蒸发磁控溅射真空镀膜设备是设备利用磁控溅射阴极辉光放电将原子离化沉积在基材上和真空中利用电阻加热法对金属丝进行处理,

利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用,以满足现行手机的电子产品制造行业标准。

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这种设备集中了等离子体处理,阴极磁控溅射,电阻蒸发镀膜装置,工作可靠、重复性一 致性良好、沉积速率高快,附着力好,

膜层品质细腻，可保持原有工件表面光洁,具有韧性好,不易脱落。过程中实现了镀膜工艺全自动化控制,在基材表面利用真空镀膜方法进行涂层,蒸发磁控溅射镀膜机具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点,主要适用于电脑、手机、工业电子电器、可镀制复合金属膜、合金膜电磁屏蔽膜及特殊膜层等领域。

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真空镀膜机真空室形变带来的影响 为尽量减小真空镀膜机真空室形变带来的影响，我们将导轨、丝杆等传动件固定于一个刚性的中间层上，其与真空室底壁之间采用点、线、面活性支撑，以吸收和隔离形变，并设置形变补偿调节机构，在系统抽真，参照有限元计算提供的理论数据预设适当的补偿量，以使其在真空状态下达到平衡。 为了验证有限元计算的结果，对真空室的形变和补偿进行了测试。步，将四只千分表***在工作台安装基点的真空壁外侧，当真空室由大气抽到真空时，记录各千分表的变化量，经化处理后为用激光自准直仪调变补偿。