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影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素

气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。

电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;

真空镀膜机所以在后掩蔽和清洗辊速度不太快

蒸发镀膜成分均匀性不易确保，与特定的因素能够操控，但由于有限的原理，对非单组分涂料，蒸发镀膜成分均匀性欠好。溅射能够简略地理解为电子或高能激光炮击方针的运用，使得外表成分的自由基或离子方式溅射，并堆积在衬底外表的成膜过程中，经历，终构成薄膜。真空镀膜机的设备溅射被分为很多类型，在溅射速率不同点和蒸发将变成一个首要的参数。

激光溅射PLD溅射涂层的成分均匀性，易于保护，和原子标准的厚度均匀性较差（由于脉冲溅射），晶体取向（外）成长的操控也更通常的。

机床的正常运行的情况下，真空镀膜机发动机器，你有必要首要翻开水管，应一直注意在作业水压力

同时，离子炮击和蒸发，应特别注意高压电线连接器，不能触摸，以防。涂层中的电子枪，对铝的外围铃。好用铅玻璃调查窗玻璃，应戴上眼镜调查铅玻璃，避免X射线对***的。多层介质膜的涂层的堆积，真空镀膜机应当装置通风除尘设备，及时扫除***粉尘。

PVD镀膜膜层的特点及厚度

PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 PVD镀膜能够镀出的膜层种类,PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。